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1.8 Grundlagen der Digitaltechnik

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Informatik V, Kap. 8, WS 98/99<br />

GND<br />

Ui1 Ui2<br />

Uref<br />

Abb. 8. 20: ECL-Gatter<br />

Is<br />

Vss (-5V)<br />

12<br />

Q' Q<br />

Ref1 Ref2<br />

(extern) (extern)<br />

Emitterfolger<br />

Das Gatter erzeugt eine OR / NOR - Verknüpfung zwischen den Eingangssignalen Ui1 und Ui2.<br />

Wenn einer <strong>der</strong> leiden linken Transistoren leitend ist, so fließt <strong>der</strong> Konstantstrom durch diesen<br />

Zweig.<br />

Zusätzlich besitzt die Schaltung zwei weitere Transistoren, die als Emitterfolger geschaltet (kein<br />

Wi<strong>der</strong>stand im Kollektorkreis) als reine Stromverstärker arbeiten.<br />

Die externen Lastwi<strong>der</strong>stände Ref1 und Ref2 können z. B. durch die Eingänge nachfolgen<strong>der</strong> Gatter<br />

gebildet werden.<br />

ECL-Schaltkreise haben über mehr als ein Jahrzehnt (ca. 1970 bis 1990) als Basistechnlogie für den<br />

Aufbau von Großrechnern (auch "Mainframes" genannt) gedient. ECL ist die "Mainframe-<br />

Technolgie" schlechthin. Dazu wurden mittelhoch integrierte ECL-Bausteine mit bis zu ca. 10 000<br />

Gattern entwickelt (z. B. bei IBM, Siemens, Fujitsu).<br />

Das Problem war stets die Abführung <strong>der</strong> hohen Verlustleistung. In Mainframes hat man mit<br />

speziellen wasserdurchflossenen Träger- Modulen für ECL-Schaltkreise bis zu ca. 80 W<br />

Verlustleistung pro cm 2 abführen können.<br />

In erster Linie dieses Problem, darüber hinaus aber auch <strong>der</strong> im Vergleich zu MOS-Technologien<br />

hohe Platzbedarf haben schließlich dazu geführt, daß ECL-Schaltkreise den Integrationsgrad von<br />

MOS-ICs auch nicht annähernd erreichen konnten.<br />

Allerdings sind Schaltzeiten unter 0,1 ps für ECL-Gatter durchaus beeindruckend.<br />

8.5 MOS-Technologien<br />

8.5.1 Einleitung<br />

Wir haben im Kapitel 7 kennengelernt, daß MOS-Transistoren sich als n- und als p-Kanal-Typen<br />

entwe<strong>der</strong> selbstleitend o<strong>der</strong> selbstsperrend realisieren lassen.<br />

Die ersten MOS-Technologien für ICs waren p-Kanal-Technologien, weil zu <strong>der</strong> Zeit (ca. bis Mitte<br />

<strong>der</strong> 70er Jahre) ein p-Kanal-Transistor in selbstsperren<strong>der</strong> Technik herstellbar war, während die n-<br />

Kanal-Techniken zunächst zu selbstleitenden Transistoren führten. Die Ursachen waren Oberflächen-<br />

Effekte.<br />

Als man ab ca. Mitte <strong>der</strong> 70er Jahre in n-Kanal-Technologie sowohl selbstleitende als auch selbstsperrende<br />

Transistoren fertigen konnte, wurde bis ca. Mitte <strong>der</strong> 80er Jahre die nMOS-Technologie<br />

das Arbeitspferd <strong>der</strong> VLSI (very large scale integration) Technik.

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