1.8 Grundlagen der Digitaltechnik
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Informatik V, Kap. 8, WS 98/99<br />
GND<br />
Ui1 Ui2<br />
Uref<br />
Abb. 8. 20: ECL-Gatter<br />
Is<br />
Vss (-5V)<br />
12<br />
Q' Q<br />
Ref1 Ref2<br />
(extern) (extern)<br />
Emitterfolger<br />
Das Gatter erzeugt eine OR / NOR - Verknüpfung zwischen den Eingangssignalen Ui1 und Ui2.<br />
Wenn einer <strong>der</strong> leiden linken Transistoren leitend ist, so fließt <strong>der</strong> Konstantstrom durch diesen<br />
Zweig.<br />
Zusätzlich besitzt die Schaltung zwei weitere Transistoren, die als Emitterfolger geschaltet (kein<br />
Wi<strong>der</strong>stand im Kollektorkreis) als reine Stromverstärker arbeiten.<br />
Die externen Lastwi<strong>der</strong>stände Ref1 und Ref2 können z. B. durch die Eingänge nachfolgen<strong>der</strong> Gatter<br />
gebildet werden.<br />
ECL-Schaltkreise haben über mehr als ein Jahrzehnt (ca. 1970 bis 1990) als Basistechnlogie für den<br />
Aufbau von Großrechnern (auch "Mainframes" genannt) gedient. ECL ist die "Mainframe-<br />
Technolgie" schlechthin. Dazu wurden mittelhoch integrierte ECL-Bausteine mit bis zu ca. 10 000<br />
Gattern entwickelt (z. B. bei IBM, Siemens, Fujitsu).<br />
Das Problem war stets die Abführung <strong>der</strong> hohen Verlustleistung. In Mainframes hat man mit<br />
speziellen wasserdurchflossenen Träger- Modulen für ECL-Schaltkreise bis zu ca. 80 W<br />
Verlustleistung pro cm 2 abführen können.<br />
In erster Linie dieses Problem, darüber hinaus aber auch <strong>der</strong> im Vergleich zu MOS-Technologien<br />
hohe Platzbedarf haben schließlich dazu geführt, daß ECL-Schaltkreise den Integrationsgrad von<br />
MOS-ICs auch nicht annähernd erreichen konnten.<br />
Allerdings sind Schaltzeiten unter 0,1 ps für ECL-Gatter durchaus beeindruckend.<br />
8.5 MOS-Technologien<br />
8.5.1 Einleitung<br />
Wir haben im Kapitel 7 kennengelernt, daß MOS-Transistoren sich als n- und als p-Kanal-Typen<br />
entwe<strong>der</strong> selbstleitend o<strong>der</strong> selbstsperrend realisieren lassen.<br />
Die ersten MOS-Technologien für ICs waren p-Kanal-Technologien, weil zu <strong>der</strong> Zeit (ca. bis Mitte<br />
<strong>der</strong> 70er Jahre) ein p-Kanal-Transistor in selbstsperren<strong>der</strong> Technik herstellbar war, während die n-<br />
Kanal-Techniken zunächst zu selbstleitenden Transistoren führten. Die Ursachen waren Oberflächen-<br />
Effekte.<br />
Als man ab ca. Mitte <strong>der</strong> 70er Jahre in n-Kanal-Technologie sowohl selbstleitende als auch selbstsperrende<br />
Transistoren fertigen konnte, wurde bis ca. Mitte <strong>der</strong> 80er Jahre die nMOS-Technologie<br />
das Arbeitspferd <strong>der</strong> VLSI (very large scale integration) Technik.